售价1.2亿美元的光刻机对中国半导体业意味着什么?国产芯片进程正在加速




【贸易战虽止,但国产芯片替代进程不可放缓,光刻机的顺利入驻意味深远,半导体产业进展顺利】




近期多家中国厂商“喜提”光刻机,半导体进展顺利,设备进入采购高峰期。中芯国际已订购一套极紫外光刻(EUV)设备,售价1.2亿美元,这是目前最昂贵和最先进的芯片生产工具。近期,长江存储采购的光刻机为ASML的193nm浸润式光刻机,售价在7200万美元。




光刻决定了半导体线路的精度,以及芯片功耗与性能,光刻设备是形成芯片电路的关键。虽然,中美双方已达成共识,在高科技领域的实现自主可控是长期命题。 同时,现阶段光刻设备价格昂贵,目前多从国外进购,国产替代空间广阔。




通过光刻机型号判断,中国国产芯片进程已在加快。到目前为止,所有量产的65nm以下制程的芯片大都是采用193nm浸润式光刻机,7nm以下需要采用EUV光刻机。





中国大陆晶圆厂资本开支大幅增加,设备是资本开支的主要构成,晶圆制造封测产业链相关设备公司迎来订单加速期。SEMI预估2017-2020年全球62座新投产的晶圆厂中有26座来自中国大陆,占比42%, IHS预计2016-2020年间中国大陆半导体资本开支约1000亿美元,其中设备采购规模合计约750亿美元。




伴随着以中芯国际、长江存储为代表的本土晶圆制造厂的崛起,相关产线并陆续进入设备采购高峰期。包括北方华创精测电子等在内更多的国产设备迎来新的发展机遇。




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