日美印刷巨头垄断下，光掩膜被买到短缺！中国半导体公司加价求货
掩膜版制造商分为两种，一种是英特尔、台积电、中芯国际等代工厂拥有自制掩膜版业务，其产能基本都是自产自销；另一种就是独立于代工厂的第三方掩膜版制造商，例如美国福尼克斯、大日本印刷、凸版印刷，以及中国大陆的清溢光电、路维光电、凤凰光学等，这类厂商主要销售的是成熟制程掩膜版。
掩膜版制造工艺复杂，可以分为前道工艺和后道工艺。掩模版产品的工艺流 程主要包括 CAM 图档处理、光阻涂布、激光光刻、显影、蚀刻、脱膜、清洗、宏观检查、自动光学检查、精度测量、缺陷处理、贴光学膜等环节。
掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如 IC、平 版显示器、印刷电路版、微机电系统等。目前掩膜版主要被Toppan、福尼克斯、DNP等垄断。
2022年我国平板显示掩膜版市场规模约为585亿日元，随着我国大量晶圆厂投产，对掩膜版的需求大增，但却受制于日美等印刷巨头。
来源：科创板日报
全球晶圆产能正逐步向我国转移趋势明显，SEMI预计中国大陆2022年-2026年还将新增25座12英寸晶圆厂，有望进一步打开光掩膜需求空间。
分析师进一步指出，短期来看，2023年下半年半导体需求有望加速修复、库存逐步去化，2024年行业有望迎来供需结构改善的拐点，光掩膜受益于下游景气提振，需求空间有望进一步打开。
掩模版，又称光掩模版、光罩等，是微电子制造过程中的图形转移母版,是承 载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体，是平板显示、半导体、触控、电 路板等行业生产制造过程中重要的关键材料。
掩膜版的作用是将设计者的电路图 形通过曝光的方式转移到下游行业的基板或晶圆上，从而实现批量化生产。
作为 光刻复制图形的基准和蓝本，掩膜版是连接工业设计和工艺制造的关键，掩膜版 的精度和质量水平会直接影响最终下游制品的良率。
掩模版是光刻工艺中的关键耗材，对于光刻工艺的重要性不弱于光刻机、光 刻胶。在集成电路领域，光掩模的功能类似于传统相机的“底片”，在光刻机、 光刻胶的配合下，将光掩模上已设计好的图案，通过曝光和显影等工序转移到衬 底的光刻胶上，进行图像复制，从而实现批量生产。
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