据英国金融时报报道，负责监督新型光刻机开发的佳能高管武石洋明近日接受采访称，采用纳米压印技术的佳能光刻设备 FPA-1200NZ2C 将会在今年或明年正式上市销售。
御手洗富士夫表示，这款新型光刻设备将为小型半导体制造商生产先进芯片开辟一条新的途径。这项技术被称为纳米压印光刻（NIL），是指将带有半导体电路图案的掩模压印在晶圆上，在一个印记之后，就可以形成复杂的2D或者3D电路图案。因此只需要不断改进掩模技术，甚至可以生产出2nm级别的芯片。
佳能与日本印刷综合企业大日本印刷株式会社（Dai Nippon Printing Co.）以及存储芯片制造商铠侠控股（Kioxia Holdings Corp.）合作研究纳米压印技术已有近十年的时间。与通过反射光工作的极紫外光刻技术不同，佳能研究的纳米压印技术是将电路图案直接印在晶圆上，从而制造出据称几何形状与最先进节点相当的芯片。
这种新设备有望让芯片制造商降低对芯片代工厂的依赖，同时也让台积电和三星电子等芯片代工厂更有可能批量生产芯片。据悉，这种机器所需功率只有 EUV 同类产品的十分之一。
另外，《金融时报》还援引御手洗富士夫的话说：“NIL 产品的价格比 ASML 的 EUV 光刻机‘少一位数’”。这表明，佳能研发的新型光刻设备在价格上具有竞争力。
纳米压印技术，从字面的意思剖析。纳米代表了这个技术加工的尺度是（纳米：Nanometer，符号:nm，即为毫微米，是长度的度量单位。1纳米=10的负9次方米。）。压印则是代表了这个技术的实现方式，按压、图印。最为直观的理解这个技术的简单类比方法就是我国的四大发明之一——印刷术。印刷术通过制作印刷模具、拓片、墨水等实现文字的复刻和图形的转移，经过多年的演变有了凸版印刷、平版印刷、凹版印刷、孔板印刷以及软板印刷等不同形式。古老的印刷术的技巧和思维经过千百年的变化仍然对当代社会产生着重要的影响，古人的思维通过历史的载体体现在了现代科技当中。纳米压印将印刷术在现代电子信息技术方向的应用体现得淋漓尽致。
纳米压印，英文名称：Nano-imprint Lithography,简称NIL.1995年,由华裔科学家周郁(Stephen Chou)教授首次提出这个概念,便解开了纳米压印制造技术研究序章。结合现代微电子工艺和材料技术，克服了光学曝光中由于衍射现象引起得分辨率极限等问题，显示了超高封边了、高产量、低成本等适合工业化生产得独特优点。
纳米压印的基本指导思想就是通过转移介质将掩模具上的图形转移到基板上，转移介质多使用聚合物薄膜（如 PMMA、PDMS等）。其工艺主要包括图形复制和图形转移两大步骤，流程由对准施压、压印（图形复制）、脱模、去除残余层、图形转移（刻蚀或者淀积金属薄膜、溶脱）。由于纳米压印技术采用的是1:1比例的掩模具进行图形转移，无需考虑分辨率受限的问题，目前利用纳米压印技术制备出的微结构特征线宽可大于2.4nm。
综合：中关村在线
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