东旭光电获得发明专利授权：“一种含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的制备及缺陷测

证券之星消息，根据企查查数据显示东旭光电（000413）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的制备及缺陷测试方法”，专利申请号为CN202111109074.5，授权日为2024年3月1日。

专利摘要：本公开涉及一种含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的制备及缺陷测试方法，该方法包括对含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的切割、对含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品切割面的研磨抛光和腐蚀以及对含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的缺陷测试；该方法通过倾斜切割、用腐蚀剂腐蚀切割面，使得接近切割面的缺陷部位能够暴露，缺陷更容易被发现，进而更容易被测试。另外，该方法利用能谱仪快速分析，并结合电子探针精确的定性分析，可以高效、准确、快捷的确定缺陷成分。

今年以来东旭光电新获得专利授权13个，较去年同期增加了18.18%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了6143.69万元，同比减5.95%。