国林科技深耕臭氧发生器领域，引领半导体清洗设备国产化
近日，创业板上市公司国林科技在6月6日至7日接待了多家机构的调研，详细阐述了其在臭氧发生器领域的深厚实力与未来规划。国林科技经过多年的技术积累与市场深耕，已成功切入高品质晶体乙醛酸和半导体臭氧设备两大具有显著竞争优势的领域，并正积极推动新业务的规模化发展。
在半导体清洗设备领域，国林科技已与多家清洗设备厂商、光伏、面板等行业的头部企业建立了紧密的合作关系，并为这些企业提供了设备进行试用验证。值得一提的是，国林科技的半导体专用臭氧设备属于非标定制产品，其价格根据各公司的具体需求有所差异，从十几万元到高达150万元不等。目前，这些半导体产品正在国内十余家企业进行严格的验证流程，其中已有部分企业完成验证，其余则正在紧锣密鼓地进行中。
在投资者问及光刻胶和光刻机方面的技术与产品时，国林科技表示，其电子级超纯臭氧气体发生器具备产生高浓度、大流量、高压力的超洁净臭氧的能力。这种臭氧在电子工业领域具有广泛的应用，包括但不限于形成CVD和ALD薄膜、氧化物生长、光刻胶去除和多种清洁应用。这不仅展示了国林科技在臭氧发生器领域的技术实力，也凸显了其在半导体产业链中的重要地位。
国林科技还透露，其半导体清洗专用臭氧设备已于2022年下半年成功交付给客户，并在随后的时间里陆续在半导体、面板、科研等行业领域进行出货验证。此外，随着半导体清洗用臭氧设备国产化率的快速提升，预计至2025年，中国大陆半导体用臭氧发生器（清洗+薄膜沉积）的国产化空间将达到3.9亿美元，较传统臭氧下游市场空间增长超过一倍。
子公司国林半导体的臭氧设备产品自2022年下半年开始进入市场，经过一年的努力，已经逐步在半导体、面板、科研等行业领域得到验证和应用。这些设备主要用于化学气相沉积（CVD）、原子层薄膜沉积（ALD）、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除等关键工艺中，为半导体产业的发展提供了有力的支持。
国林科技2024年一季报显示，公司主营收入为9669.34万元，同比上升了46.23%。这一数据的增长不仅体现了公司业务的稳健发展，也预示了其在半导体清洗设备领域的国产化突破将为公司带来更为广阔的市场空间和增长动力。
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