近日，日本知名化工企业三井化学宣布，将开始量产半导体最尖端光刻机的零部件产品——保护半导体电路原版的薄膜材料“Pellicle”，这些新一代Pellicle材料将用于支持荷兰阿斯麦（ASML）即将推出的下一代光刻机。
根据启信宝数据显示，三井化学国内的运营主体为三井化学（中国）管理有限公司成立于1998年12月15日，注册地位于中国（上海）自由贸易试验区基隆路6号外高桥大厦1008室，法定代表人为樫森 雅史（KASHIMORI MASASHI），经营范围包括主要为受母公司及其授权管理的中国境内外企业的委托，为其提供下列服务：（1）投资经营决策，（2）资金运作和财务管理，（3）化学工业及其相关工业的产品等业等业务，为三井化学株式会社的全资子公司。
Pellicle是一种保护半导体电路原版的薄膜材料，主要用于光刻工艺中保护掩模版，防止其受到污染和损坏。随着半导体制造技术的不断进步，对Pellicle材料的要求也越来越高。新一代Pellicle材料具有更高的透光性和耐用性，能够满足未来尖端光刻机的需求。
启信宝查了下发现，三井化学作为全球领先的化工企业，与国内多家企业建立了合作关系，特别是在半导体材料领域，如中国石化，是中国最大的石油和化工企业之一，业务涵盖石油、天然气的勘探、开发、储运、炼制及石化产品的生产和销售，曾在2004年与三井化学与中国石化在多项化学产品的开发和市场推广方面达成了长期合作协议。
TCL华星光电技术有限公司是中国领先的显示面板制造商，专注于液晶显示屏（LCD）和有机发光二极管（OLED）显示屏的研发和生产，据《证券时报》报道，三井化学为华星光电提供的高性能化学材料，支持了其在新一代显示技术方面的研发和应用。除此以外，还有多家企业曾和三井化学进行过合作。
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