$东材科技(SH601208)$  

      钟亿化学支持华中科技大学团队研究“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术，这一具有自主知识产权的光刻胶体系已在产线上完成了初步工艺验证。

      该技术通过化学结构设计，以两种光敏单元构建“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”，最终得到光刻图像形貌与线边缘粗糙度优良、space图案宽度值正态分布标准差（SD）极小（约为0.05）。

      根据SEMI数据，2022年全球半导体光刻胶市场规模为26.4亿美元，同比增长6.82%；大陆半导体光刻胶市场规模为5.93亿美元，同比增长20.47%，增速远高于全球市场。

       随着国内半导体产业的快速发展，高端半导体光刻胶国产市场需求迫切，钟亿化学的技术突破有助于提升国内光刻胶市场的自给率。

       钟亿化学的新型光刻胶技术能够产生分辨率高且截面形貌优良的光刻图形，解决了光刻制造的共性难题。

       光刻显影各步骤所需时间完全符合半导体量产制造中对量和生产效率的需求。

产业链发展。钟亿化学在光刻胶核心原料方面已有布局，逐步打破美日欧垄断，树脂和增感剂等核心原料的国产化率正在提高。随着技术突破和市场需求的增加，钟亿化学在KrF、ArF等高端IC光刻胶领域的产能规划有望进一步扩大，改变全球光刻胶产业供给格局。

市场竞争力

市场份额：钟亿化学的技术突破有助于提升其在国内外光刻胶市场的份额，特别是在高端KrF、ArF光刻胶领域。

客户认证：光刻胶制造具有高个性化定制要求，钟亿化学的新型光刻胶技术一旦获得大规模量产订单，将形成稳定的客户关系。

政策倾斜：随着国家对核心半导体材料的重视，钟亿化学在光刻胶领域的技术突破得到了政策上的支持。

资金投入：国内部分公司在KrF、ArF等高端IC光刻胶领域不断突破，资金投入日益加大，钟亿化学也有望获得更多的资金支持。

技术进步：钟亿化学的技术突破对推动国产光刻胶的技术进步意义重大，为极紫外线光刻机光刻胶的开发做技术储备。