7月9日,光伏设备大厂捷佳伟创宣布,继4月份半导体碳化硅整线湿法设备订单并完成合同签署后,近日公司子公司创微微电子(常州)有限公司(以下简称:创微微电子)再次斩获另一家半导体头部企业整线湿法设备订单,目前已完成合同签订工作。

据介绍,此次签订的合同标的位于该客户新产业园的碳化硅产线,交付的机台数量多达18台(套),为之前4月签订的合同交付量的2倍,可覆盖碳化硅器件刻蚀清洗全段工艺。

其中包含创微微电子全新研发的Swing-type Dry干燥设备,该设备可同时兼容6/8吋产线,极大地提升了设备开发效率。同时也再次巩固了创微微电子6/8吋槽式及单片全自动湿法刻蚀清洗设备替代进口设备的能力。

source:捷佳伟创

据了解,官网资料显示,创微微电子成立于2020年9月,专注于集成电路湿法清洗工艺设备的研发、生产、销售和服务。其主要产品有4到12英寸批式及单晶圆刻蚀清洗湿法工艺设备,应用范围涵盖了Micro LED、第三代化合物、微机电、后端封装及集成电路IDM和代工大厂所需的湿法工艺需求,满足近90%湿法工艺步骤,包含有光刻胶去除、氧化膜刻蚀、金属膜刻蚀、氮化硅刻蚀、炉管前清洗等。据悉,2022年7月,由创微微电子研发生产的8英寸Cassette-less清洗设备交付至积塔半导体并开始验证阶段,运行情况良好。与此同时,创微微电子成功中标积塔半导体后续10余台清洗设备订单,制程涵盖8英寸至12英寸。目前,创微微电子已推出4-8英寸全自动Cassette type清洗设备、8英寸全自动Cassette-less清洗设备及4-8腔Single tool清洗设备,成功导入青岛芯恩、成都德州仪器、积塔半导体等国内头部芯片企业并获得重复性订单。值得一提的是,去年12月,苏州市、无锡市、常州市工信局共同发布2023年苏锡常首台(套)重大装备拟认定公示名单,创微微电子的单晶圆刻蚀清洗设备成功通过公示认定,实现首台套零突破。

 

捷佳伟创、集邦化合物半导体整理

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