一种多光学头并行的快速光刻系统及方法

金融界 2024 年 7 月 12 日消息，天眼查知识产权信息显示，苏州苏大维格科技集团股份有限公司申请一项名为“<一种多光学头并行的快速光刻系统及方法>“，公开号，申请日期为<2023 年 1 月>。

专利摘要显示，本发明提供一种多光学头并行的快速光刻系统及方法。所述系统包括：掩模版、基片及多个光学头，每个光学头包括光刻照明模组和掩模投影光学模组，光刻照明模组、掩模版、掩模投影光学模组及基片沿光路依次设置，掩模投影光学模组为反向成像模组，投影光斑为掩模版的照明光斑的放大、倒立的实像。整个系统通过多光学头并列放置的空间布局和光学投影成像尺寸的匹配，各个光学头可以并行扫描曝光，解决单个光学头视场有限的问题，原理上幅面不受限制，且本发明光路实施可行性高，可利用若干小尺寸掩模版拼接光刻实现大尺寸完整图形，易于加工实现，且降低生产应用成本。