光刻胶+三氟化氮1、公司ArF光刻胶先后通过50nm山村平台认证和55nm逻辑电

$南大光电(SZ300346)$  光刻胶+三氟化氮

1、公司ArF光刻胶先后通过50nm山村平台认证和55nm逻辑电路平台认证，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，已完成两条光刻胶生产线的建设，光刻胶年产能将达25吨（干式5吨和浸没式20吨）。。

2、2023年公司拟6亿元投建年产8400吨高纯电子级三氟化氮生产项目。2024年公司申请二茂铁纯化装置专利，2024年1月10日公司申请高纯度La（iPrCp）3专利。

3、公司承担的国家科技重大专项（02专项）“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”之“现金光刻胶产品开发与产业化”项目通过专家组验收。

4、公司主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、压研发和销售，是全球主要的MO源生产商，市场占有率全球第一。