你以为的ASML被美国施压，不许出口到中国。但真实情况是：中国地区销售额占据ASML半壁江山。2024Q1，中国地区销售额占比49%；2024Q2，中国地区销售额继续维持49%的比例。
你以为的ASML卖的都是最顶尖的EUV光刻机。但真实情况是：在最新的一个季度，以销售额论，ArFi占比50%超过EUV的31%。若是以机台数论，24Q2EUV销售8台，占比总台数100台仅8%。
你以为的中国半导体大投入，大基金三期3000亿人民币天文数字。但真实情况是：ASML一家一年仅研发费用44亿欧元加上11亿欧元的管理销售费用就合计人民币440亿元。5年3000亿远远不够喂饱两家光刻机公司。
你以为的ASML最先进的High NA 光刻机用在拥有全球最先进工艺制程的台积电家。但真实情况是：ASML已经出货的两台High NA光刻机一台卖给了Intel，一台卖给了ASML-imec（比利时微电子研究中心）联合演示实验室。
你以为的台积电在研的1.6纳米制程光刻机成像分辨率也是1.6nm。但真实情况是：ASML最精细的成像分辨率也才8nm，而且台积电还没用。
你以为的用来生产几百纳米制程的光刻机很low很便宜。但真实情况是：ASML 最低端的I-line光刻机（能做到的最先进制程也才350nm）也都要卖到接近5000万人民币一台。由低端到高端排序的I-line、KrF、ArF-Dry、ArFi、EUV最新单价分别为：0.5亿人民币、1亿人民币、2.4亿人民币、6亿人民币、15亿人民币，最先进的High NA EUV单价卖到28亿人民币。家里有矿不一定有钱，家里有光刻机是肯定真有钱。
你以为的那些GPU、CPU、AI加速芯片才会用到最先进的EUV，存储芯片制造不需要用EUV。但真实情况是：AI推动的高带宽内存HBM就开始需要EUV，而且存储需求的EUV光刻机会构成ASML 2025年、2026年重要增量，而且还是High NA（高数值孔径）的EUV。
你以为的台积电N3（3nm）工艺今年量产爬坡， N2（2nm）工艺明年量产。但真实情况是：这次你以为的居然真的是对的。ASML说台积电预定的N2光刻机在2025年下半年才会出货，不过现在已经开始下单预定了。
你以为的ASML是荷兰公司，公司硬气一点就可以脱离美国控制出货EUV给中国。但真实情况是：公司管理层明确答复他们的工具中使用了大量的美国知识产权，不可能在脱离美国知识产权之下还能做出EUV光刻机。
你以为的只有EUV光刻机不能卖给中国，DUV光刻机中国厂商随便买。但真实情况是：2023年中国还可以买浸润式DUV NXT:2050，但出售许可证在2024年已经被荷兰政府撤销了。
你以为的那么复杂、那么精密的极紫外浸没式光刻一定很费时。但真实情况是：最新的EUV 3800系列光刻机，一小时可以220片晶圆，即一片晶圆光刻仅需要16秒。
你以为的摩尔定律在放缓，光刻机升级迭代变得越来越慢，光刻机企业价值变得不是那么关键。但真实情况是：因为芯片功能越来越强导致芯片晶体管数量和密度要求越来越高；如果晶圆上晶体管缩小变得越来越难，那只能需要更多的晶圆片数，晶圆片数增大光刻机需求量也就越大
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