龙图光罩:极其稀缺的半导体材料新贵!工艺技术壁垒高加快国产替代!产品订单激增!覆盖国内头部芯片大厂!

深耕自主可控特色工艺的卓越典范,勇于突破芯片卡脖子难题!龙图光罩:国内极其稀缺的半导体掩模版生产商!行业门槛高、技术壁垒厚、护城河深!产品覆盖中芯集成、士兰微、积塔半导体、华润微、华虹半导体、比亚迪半导体、立昂微等国内集成电路主流头部大厂!基于行业特殊工艺地位稀缺性和成长空间,给予80亿脱水估值和120亿情绪估值!

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公司2024 年 1 月-3 月实现营业收入5972.29 万元,同比增长25.29%;实现净利润2474.18 万元,同比增长36.39%。公司预计2024 年 1-6 月实现营业收入1.25亿元至1.30亿元,同比增长21.17%至 26.02%;预计实现净利润约 4800万元至 5000万元,同比增长19.41%至 24.39%。行业内主要企业:美国Photronics、日本 DNP、Toppan、中国台湾光罩、中微掩模、迪思微、清溢光电、路维光电。在制程水平这一指标参数 上,公司已经实现了 130nm 工艺节点半导体掩模版的量产,实现了20nm 的 CD 精度和套刻精度,这一水平在国内独立第三方半导体掩模版厂商中属于领先水 平,但与美国 Photronics、日本 Toppan、日本 DNP 等国际掩模版巨头相比仍有 较大差距。

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龙图光罩(688721)公司主营半导体掩模版相关产品,是国内稀缺的独立第三 方半导体掩模版厂商。公司紧跟国内特色工艺半导体发展路线,不断进行技术攻 关和产品迭代,半导体掩模版对应下游半导体产品的工艺节点从 1m 逐步提升 至 130nm1,产品广泛应用于功率半导体、MEMS 传感器、IC 封装、模拟 IC 等 特色工艺半导体领域,终端应用涵盖新能源、光伏发电、汽车电子、工业控制、无线通信、物联网、消费电子等场景。公司已掌握 130nm 及以上节点半导体掩模版制作的关键技术,形成涵盖 CAM、光刻、检测全流程的核心技术体系。在功率半导体掩模版领域,公司工艺节点已覆盖全球功率半导体主流制程的需求。掩模版是集成电路制造过程中的图形转移工具或者母板,承载着图形信息和工艺技术信息。掩模版的作用是将承载的电路图形通过曝光的方式转移到硅晶圆等基体材料上,从而实现集成电路的批量化生产。掩模版广泛应用于半导体、平板显示、电路板、触控屏等领域。公司客户涵盖中芯集成、士兰微、积塔半导体、华润微、华虹半导体、比亚迪半导体、立昂微、燕东微、芯朋微、粤芯半导体、斯达半导体、清华大学、上海交通大学等,涉及芯片制造、MEMS传感器、先进封装、芯片设计厂商及高校科研院所。

半导体掩模版生产厂商可以分为晶圆厂自建配套工厂和独立第三方掩模厂 商两大类。由于 28nm 及以下的先进制程晶圆制造工艺复杂且难度大,各家用于 芯片制造的掩模版涉及晶圆制造厂的重要工艺机密且制造难度较大,因此先进制程晶圆制造厂商所用的掩模版大部分由自己的专业工厂内部生产,如英特尔、三 星、台积电、中芯国际等公司的掩模版均主要由自制掩模版部门提供。对于 28nm 以上等较为成熟的制程所用的掩模版,芯片制造厂商为了降低成本,在满足技术 要求下,更倾向于向独立第三方掩模版厂商进行采购。数据显示,全球晶圆制造代工收入中 28nm 以上制程的收入占比约为 55.38%,占据晶圆代工大部分收入。在全球半导体掩模版市场,晶圆厂自行配套的掩模版工厂 规模占比 65%,独立第三方掩模厂商规模占比 35%,其中独立第三方掩模版市场主要被美国 Photronics、日本 Toppan 和日本 DNP 三家公司所控制,三者共占八成以上的市场规模,市场集中度较高。作为半导体行业可重复使用的光刻模板,掩模版产品直接需求与半导体产品 的更新迭代与产线扩充息息相关。当半导体产品持续推出新工艺、新结构、新材 料等新的芯片设计或者需要产线扩充时,晶圆制造厂商需要使用新的掩模版来进行半导体的大规模生产,此时就会产生开版需求。因此,掩模版的市场需求与半 导体更新换代、产线扩充直接相关。近年来受新能源汽车、光伏发电、工业自动 化、物联网等下游新兴产业推动,以功率器件为代表的特色工艺半导体发展迅速,不断进行产品迭代,为半导体掩模版创造了大量的市场需求。

根据 SEMI 数据,作为半导体材料的重要组成部分,掩模版占半导体材料市 场规模的比例约为 12%,仅次于硅片和电子特气,由此推算,2023 年全球半导体掩模版市场规模为 95.28 亿美元,2023 年中 国半导体掩模版的市场规模约为 17.78 亿美元。未来随着半导体行业容量的持续 上升,半导体掩模版市场规模将不断提升。由于半导体掩模版具有较高的进入门槛,国内半导体掩模版主要生产商仅包括中芯国际光罩厂、迪思微、中微掩模、龙图光罩、清溢光电、路维光电、中国台湾光罩等。中芯国际光罩厂为晶圆厂自建工厂,产品供内部使用;清溢光电、路维光电产品以中大尺寸平板显示掩模版为主,半导体掩模版占比较低。龙图光罩是国内屈指可数的第三方半导体掩模版厂商,工艺水平、出货量及市场占有率居 国内企业前列。掩模版作为半导体产业的上游核心材料,技术壁垒高,国内自产率低,长期 依赖国外进口,第三方半导体掩模版市场主要被美国 Photronics、日本 Toppan、日本 DNP 等国际掩模版巨头所控制。随着新能源汽车、光伏发电、自动驾驶、物联网等新一轮科技逐渐走向产业化,未来十年中国半导体行业尤其是特色工艺 半导体有望迎来进口替代与成长的黄金时期。在贸易摩擦等宏观环境不确定性增 加的背景下,作为半导体核心原材料的国内半导体掩模版行业发展迎来了历史性 的机遇。

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$龙图光罩(SH688721)$

$清溢光电(SH688138)$

$路维光电(SH688401)$

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