随着半导体技术的不断发展，光罩技术也在不断进步。从早期的g线、i线技术，到KrF

$龙图光罩(SH688721)$  随着半导体技术的不断发展，光罩技术也在不断进步。从早期的g线、i线技术，到KrF、ArF技术，再到EUV技术，光罩的图形复杂度和精度要求不断提高。这些技术的进步使得半导体制造工艺能够不断缩小线宽，提高集成度。

目前，国内的光罩技术也在不断进步，一些企业如龙图光罩已经在高精度半导体掩模版领域取得了显著成果，实现了130nm工艺节点的量产，并达到了较高的精度和稳定性。然而，与国际先进水平相比，国内的光罩技术仍需进一步发展。