光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备，也是光刻胶材料研发的重要设备，根据晶瑞电材的集成电路制造用高端光刻胶研发项目信息，设备及安装费占总投资额的69%，而光刻机就占设备及安装费的44%。

目前，全球光刻机市场的集中度极高，前三大厂商的市场份额占比达90%以上。数据显示，2015-2020年，全球光刻机销售量总体增长，2020年达413台，同比增长16.7%。

光刻机随着光刻技术的更迭，已从最初的g-line，i-line历经KrF、ArF发展到了如今的EUV。2020年，全球光刻机销量仍以中低端产品（KrF、i-Line）为主，合计达264台，占比约65%；而在高端光刻机-EUV的销量为31台，占比约19%。

资料来源：公司公告、贝哲斯咨询


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