$福晶科技(SZ002222)$  

福晶科技的光源相关产品在一定程度上适合光刻机，具体体现在以下方面：

1. 技术优势契合光刻机需求：

• 晶体材料性能优异：福晶科技是非线性晶体、激光晶体等领域的领先企业。例如其研发的LBO（三硼酸锂）晶体，具有良好的光学性能和较高的激光损伤阈值，在激光频率转换等方面表现出色。在光刻机中，光源的频率转换和光束质量的提升对于光刻精度至关重要，LBO晶体能够为光刻机光源提供稳定、高效的频率转换，从而满足光刻机对光源的严格要求。

• 具备窄线宽输出能力：2024 年 4 月，中国科学院的研究人员使用福晶科技的 LBO 晶体的复杂两级倍频生成过程，实现了 193 纳米固态 DUV 激光的显著 60 毫瓦窄线宽输出。窄线宽的光源可以提供更高的光刻分辨率，对于制造更小尺寸的芯片具有重要意义，这一技术突破为福晶科技的光源产品在光刻机中的应用提供了有力支持。

2. 产品应用领域相关度高：

• 在光学领域的广泛应用基础：福晶科技的产品广泛应用于激光、光通讯等工业领域，这些领域对于光学元件的精度、稳定性和可靠性要求极高。光刻机也是一种高度依赖光学技术的设备，福晶科技在相关领域的丰富经验和技术积累，使其光源产品更容易满足光刻机的应用需求。

• 与光刻机产业的关联：福晶科技的产品是制造光刻机的光源系统中的重要零部件，处在激光行业的上游。其部分精密光学元件产品已经应用于半导体设备等领域，与光刻机产业存在紧密的联系，这为其光源产品进入光刻机市场提供了良好的基础。

不过，要完全满足光刻机的光源需求，还需要不断进行技术研发和优化。光刻机对光源的稳定性、均匀性、功率等方面都有极其严格的要求，福晶科技需要在现有技术基础上，进一步提高光源产品的性能指标，以更好地适应光刻机的应用场景。