高科技产品离不开高端芯片，而高端芯片的生产离不开光刻机（胶）。这个领域我们同西方，常规路径很难出奇制胜，多重曝光、套刻技术也就应运而生。尽管与ASML DUV还有距离，但是通过变通技术可以大大缩短的功能差距。关键是我们能够使用这些自己的光刻机生产出我们必须的芯片。我们暂时可能不能直接攻克这个领域制高点，但是我们可以用我们智慧另辟蹊径，绕开它继续前进。
中国宣布二款国产高性能光刻机，无疑是这个假期的重磅消息。相信节后，光刻机（胶）大概率会起行情，关注张江高科、华懋科技。
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