28奈米以上制程的成熟芯片有望全流程国产化！
近日，工信部印发《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》的通知。目录中的“集成电路生产装备”板块列出了氟化氪光刻机和氟化氩光刻机。其中，氟化氩光刻机具有65奈米以下的分辨率和8奈米以下的套刻精度，能够支持28奈米工艺芯片的量产。这不仅是中国在半导体设备领域的一次重大飞跃，也表明了中国在未来几年内有可能达到国际先进水平的决心。除了光刻机，这个文件还有多类集成电路生产装备，包括硅外延炉、湿法清洗机、氧化炉、涂胶显影机、高能离子注入机、离子注入机、等离子干法刻蚀机、特种金属膜层刻蚀机、化学气相沉积装备、物理气相沉积装备、化学机械抛光机、激光退火装备、光学线宽量测装备。
消息称，国产氟化氩光刻机的研发主要由几家领先半导体设备制造商和研究机构共同完成。其中，中微半导体设备（上海）股份有限公司（AMEC）和上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）是主要的参与者。此外，中国科学院微电子研究所也在这一领域做出了重要贡献。
为啥这个消息鼓舞人心呢？
光刻机作为半导体制造的核心设备，其技术水平直接影响到了芯片的性能与成本。衡量光刻机性能好坏通常依据三大核心技术指标：
光学分辨率、套刻精度以及产能。
光学分辨率来看，从最早的I线光刻机开始，其光学分辨率从最初的350奈米逐步进化至110、80、65、57、乃至38奈米（DUV光刻机的极限）。与此同时，套刻精度也相应从20奈米提高至1.3、1.5及1.1。值得注意的是，不同的光刻机型号之间不仅在光学分辨率上有较大差异，其套刻精度也有明显区别，从而决定了最终可实现的工艺支撑极限。此外，不同型号的光刻机对应着不同的产能水平，提高产能意味着单位时间内制造出更多的芯片。
那么，这次披露的分辨率和套刻精度，什么水平呢？
按套刻精度与量产工艺1:3的关系，国产光刻机大概可以量产28奈米工艺的芯片。这意味着28奈米以上制程的成熟芯片有望实现全流程国产化，在中低端芯片市场上，中国的量产能力将不再受海外制约。
与此同时，中国科益虹源公司自主研发设计生产的首台高能准分子激光器，填补了中国在准分子激光技术领域的空白。在涂胶显影设备方面，芯源微电子设备推出了首台浸没式高产能涂胶显影机，可满足国内28奈米及以上所有工艺节点的生产线对T RACK的要求，能配合各种主流光刻机量产。综上，中国内地在光刻机领域已经具备了快速发展的基础，光刻技术产业链已经初步形成。
2024年以来，伴随半导行业周期回暖，国内晶圆厂加大设备采购力度。据海关总署数据，2024年1-7月中国大陆进口半导体设备230.51亿美元，同比增长48%，本土晶圆厂的大力扩产将拉动国产半导体设备的需求增量。
民生证券研报指出，海外半导体设备供给持续高增满足短期扩产需求，国产光刻机技术亦在持续突破，利好半导体设备自主可控的长期发展，继续看好国内晶圆厂的投资增长和国产半导体设备的国产化机遇。
芯片板块具有高弹性的特征，中证芯片产业指数自2016以来累涨39%，表现优于同期申万电子行业指数、创业板、沪深300指数，并且在上涨行情中有望获得更高超额收益。截至到2024/9/13，中证芯片产业指数的估值57倍（PE-TTM），距离历史峰值还有超99%的空间，性价比值得关注（数据来源：中证指数有限公司，Choice金融终端，2016/1/1-2024/9/13）。
芯片ETF基金（159599）跟踪中证芯片产业指数，选取业务涉及芯片设计、制造、封装与测试等领域，以及为芯片提供半导体材料、晶圆生产设备、封装测试设备等物料或设备的上市公司证券作为指数样本，以反映芯片产业上市公司证券的整体表现，一共50只成份股，截至2024/9/13，前十大权重股为：北方华创、中芯国际、海光信息、韦尔股份、中微公司、澜起科技、寒武纪、兆易创新、长电科技、三安光电。（数据来源：深交所）
（以上信息来源：公司公告，东财基金整理）
注：基金管理人对文中提及的板块和个股仅供参考，不代表基金管理人任何投资建议，不代表基金持仓信息或交易方向，个股涨幅不代表本基金未来业绩表现，不构成任何投资建议或推介。
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中证芯片产业指数涨跌幅如下：2016年（-16.15%）；2017年（20.21%）；2018年（-41.75%）；2019年（140.85%），2020年（52.99%）；2021年（32.15%）；2022年（-37.41%）；2023年（-2.18%）;2024年1-6月（-12.30%）。数据来源：中证指数有限公司。指数历史业绩不预示指数未来表现，也不代表本基金未来表现。
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