主要驱动因素:

1、半导体行业增长:由于对电子设备和组件的需求不断增长,半导体行业正在不断发展和扩张。 这种增长直接影响对溅射靶材的需求,因为它们是半导体制造工艺的重要材料。

2、电子设备的小型化:电子设备(例如智能手机、笔记本电脑和物联网设备)越来越小、功能越来越强 大,这一趋势需要先进的半导体制造工艺。 溅射靶材用于这些工艺中的薄膜沉积,以制造更小、更高效的组件。

3、新兴市场:新兴经济体,特别是亚洲的新兴经济体,对电子设备和半导体的需求不断增长。 制造和技术采用的增长促进了这些地区对溅射靶材的需求。

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