$双乐股份(SZ301036)$ 酞菁颜料的分子结构中含有极性基团，具有良好的亲水性，可以与光刻胶中水分子相互作用，提高光刻胶的水解性能，从而在紫外线或电子束辐照下形成高分辨率的图案。
酞菁颜料可以用于改善光刻胶的性能，提高光刻胶的反应灵敏度和曝光速度。
具体而言，酞菁颜料可以与光刻胶分子中的丁酮基团反应，形成相应的背景模板，提高图案在光刻胶中的清晰度和分辨率。
同时，酞菁颜料还可以起到抗反射层的作用，降低光刻胶与硅片表面的反射，提高光子的利用率和图案的清晰度。
酞菁母体由4个异吲哚基元构成平面大环共轭体系, 具有16中心18电子特性, 电子密度分布均匀, 环内苯环不易变形, C–N键键长几乎相同, 分子间-电子作用强烈. 酞菁环中心空穴直径约为0.27nm, 能够络合数十种过渡金属和其他主族金属元素的一个原子; 周围苯环共有16个取代位点, 分别为8个周边位置(p-site)和8个非周边位置(np-site). 酞菁母体的结构多样性和强烈的分子间相互作用赋予其丰富的光物理/光化学性质和优异的稳定性, 因此酞菁在生物医学诊疗和光电信息领域有着重要的应用.
目前, 尽管锌酞菁、铜酞菁颜料的分散粒子已应用于彩色光刻胶着色剂, 但其酞菁染料分子体系在高光热稳定性上距产业应用尚有差距, 因此需要加强酞菁染料分子结构-性能之间关系的研究. 近年来, 研究者围绕不同种类金属的酞菁在彩色光刻胶中的应用做了许多探索, 但取代基对酞菁性能的影响并未得到系统研究.
基于此, 以锌酞菁和多氯代锌酞菁作为染料母体, 分别在周边苯环p位和np位引入给电子的苯酚基和吸电子的苯砜基, 合成了6种新染料分子, 探讨了取代基电子效应及取代位置对酞菁光谱性质、溶解性和稳定性的影响（见下图）, 以便为下一代分子水平的锌酞菁分子设计在高分辨光刻胶中的应用提供依据
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