2024-10-22 09:07
好消息来了，又一家国产KrF光刻胶通过验证！
近日，武汉太紫微宣布，其推出的T150 A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证。
据了解，这款光刻胶对标国际头部企业主流KrF光刻胶。并且，相较于被业内称之为“妖胶”的国外同系列产品，T150 A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后道刻蚀工艺表现更为友好，通过验证发现T150 A中密集图形经过刻蚀，下层介质的侧壁垂直度表现优异。
同时，值得称道的是，这款光刻胶还实现了配方全自主设计。