国内半导体设备领先企业,长期受益于国产替代
事项:
公司公布2024年三季报,2024年前三季度公司实现营收203.53亿元(39.51%YoY),归属上市公司股东净利润44.63亿元(54.72%YoY)。
平安观点:
业绩持续高增,产品矩阵扩充:2024年前三季度公司实现营收203.53亿元(39.51%YoY),归属上市公司股东净利润44.63亿元(54.72%YoY),扣非后归母净利42.66亿元(61.58%YoY)。2024年前三季度公司整体毛利率和净利率分别是44.22%(4.39pctYoY)和21.91%(1.52pctYoY)。2024Q3单季度公司实现营收80.18亿元(30.12%YoY),归属上市公司股东净利润16.82亿元(55.02%YoY),受益于半导设备国产化,公司业绩持续高增,业绩符合预期。费用端:2024年前三季度公司销售费用率、管理费用率、研发费用率和财务费用率分别为3.88%(-0.31pctYoY)、6.60%(-0.53pctYoY)、10.77%(1.25pctYoY)和0.33%(0.54pctYoY),公司费用率整体比较稳定。作为平台型半导体设备公司,公司继续深耕客户需求,不断拓展创新边界,丰富产品矩阵,进一步拓宽工艺覆盖范围。根据23年年报,北方华创在全国建立了19个客户服务中心、4个备件调拨中心和10个备件库,形成了完善的客户服务体系,在技术支持、现场服务、备品备件供应等方面与客户形成了良好的合作关系,打造了“强支撑、优服务、高质量”的客户服务核心竞争力。
国内半导体设备平台企业,充分受益IC国产化:1)刻蚀装备方面,面向12寸逻辑、存储、功率、先进封装等客户,已完成数百道工艺的量产验证,采用高密度、低损伤设计的12寸等离子去胶机已在多家客户完成工艺验证并量产;金属刻蚀设备凭借稳定的量产性能成为国内主流客户的优选机台;迭代升级的高深宽比TSV刻蚀设备,以其优异的性能通过客户端工艺验证,支撑Chiplet工艺应用;应用于提升芯片良率的12寸CCP晶边刻蚀机已进入多家生产线验证;精准针对客户需求,发布了双频耦合CCP介质刻蚀机,实现了在硅刻蚀、金属刻蚀、介质刻蚀工艺的全覆盖;2)薄膜装备方面,铜互联薄膜沉积、铝薄膜沉积、钨薄膜沉积、硬掩膜沉积、介质膜沉积、TSV薄膜沉积、背面金属沉积等二十余款产品成为国内主流芯片厂的优选机台;3)立式炉装备方面,中温氧化/退火炉、高温氧化/退火炉、低温合金炉,低压化学气相沉积炉、批式原子层沉积炉均已成为国内主流客户的量产设备,并持续获得重复订单;4)清洗装备方面,拥有单片清洗、槽式清洗两大技术平台,主要应用于12吋集成电路领域。单片清洗机覆盖Al/Cu制程全部工艺,是国内主流厂商后道制程的优选机台;槽式清洗机已覆盖RCA、Gate、PRstrip、磷酸、Recycle等工艺制程,并在多家客户端实现量产,屡获重复订单;5)卧式炉管设备方面,主要为光伏客户提供氧化扩散、等离子体化学气相沉积、低压化学气相沉积三大技术平台基础上的硼扩、磷扩、氧化退火、正/背膜氮化硅沉积、多晶硅沉积、多晶硅掺杂、隧穿氧化层沉积、异质结非晶硅薄膜沉积等20余款工艺设备,适用于PERC、TOPCon、HJT等多种技术路线工艺应用,实现主流客户全覆盖。
投资建议:在集成电路核心装备领域,公司成功研发出高密度等离子体化学气相沉积(HDPCVD)、双大马士革CCP刻蚀机、立式炉原子层沉积(ALD)、高介电常数原子层沉积(ALD)等多款具有自主知识产权的高端设备,并在多家客户端实现稳定量产。根据公司的订单交付进度,我们略微调升公司盈利预测,预计2024-2026年公司实现归母净利润分别为58.96亿元、77.80亿元、99.58亿元(原值为56.09亿元、73.85亿元、94.39亿元),对应的PE分别为35倍、27和21倍。公司是国内半导体设备领先企业,长期受益于国产替代。维持公司“推荐”评级。
风险提示:1)下游客户扩产投资不及预期的风险。若下游晶圆厂和LED芯片制造商的后续投资不及预期,对相关设备的采购需求减弱,这将影响公司的订单量,进而对公司的业绩产生不利影响。(2)新产品研发不及预期风险。若公司新产品研发不及预期,将影响公司长远发展。(3)国际贸易摩擦风险。近年来,国际贸易摩擦不断。如果中美贸易摩擦继续恶化,公司的生产运营将受到一定影响
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