$苏大维格(SZ300331)$  苏大维格在纳米压印技术方面取得了显著的进展。据报道，截至2023年9月，苏大维格已经在实验室环境中实现了10纳米以上的纳米压印技术。这项技术的目标是进一步拓展至5纳米级别，以满足未来更高级别的集成电路制造需求。

纳米压印技术是一种利用物理压印而非化学蚀刻或光刻来创建纳米尺度结构的方法，相比传统光刻技术，纳米压印技术具有成本更低、过程更简单等优点。如果苏大维格能够成功将该技术商业化并应用于芯片制造等行业，这将是一个重要的里程碑，有助于降低芯片制造成本，提高生产效率，并可能改变全球半导体行业的格局。然而，需要注意的是，尽管实验室成果令人鼓舞，但要实现大规模商业化生产，还需要克服许多技术和工程上的挑战。