苏大维格的部分技术和业务与原子级制造相关，主要体现在以下方面： - 高精度光

苏大维格的部分技术和业务与原子级制造相关，主要体现在以下方面：

- 高精度光刻技术：公司自主研发的紫外直写光刻机、大型紫外计算光刻机等设备，可实现微纳结构的高精度制造。如110吋紫外三维光刻直写设备，能在米级幅面上实现微纳结构（50nm~50m）的高效和高精度兼容性三维光刻，为原子级制造中的光刻工艺提供了技术支持，有助于实现原子级精度的加工.
- 纳米压印光刻技术：其攻克的卷对卷纳米压印技术，可实现工业化生产微纳结构模具等。纳米压印光刻能够达到纳米级别的精度，在制造具有特定微纳结构的材料和器件方面具有优势，与原子级制造中对原子尺度结构的制造要求相契合，可用于制备原子级结构的材料和器件.
- 光场调控技术：苏大维格提出数字光场调控技术与傅里叶级数叠加算法，解决了海量数据处理难题，可实现对光刻过程中光场的精确调控，从而达到更高的光刻精度和更复杂的微纳结构制造，为原子级制造中的高精度加工和复杂结构制造提供了技术手段.
- 应用领域拓展：公司的技术和产品应用于光电子、光子芯片、新型显示、MEMS、第三代半导体器件等领域，这些领域对制造精度的要求不断向原子级逼近。苏大维格的技术有助于推动这些领域在原子级制造方向的发展，提升相关产品的性能和竞争力，如为光子芯片的原子级精度制造提供技术支撑，实现更高性能的光子芯片生产.