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金融界2025年1月14日消息,国家知识产权局信息显示,云南贵金属实验室有限公司申请一项名为“一种高纯超低氧含量钌钽合金靶材及其制备方法”的专利,公开号 CN 119282115 A,申请日期为2024年9月。
专利摘要显示,本发明公开了一种高纯超低氧含量钌钽合金靶材及其制备方法,属于磁控溅射合金靶材技术领域。本发明包括(1)混粉;(2)低压预压制;(3)高真空煅烧;(4)热等静压烧结;(5)打磨抛光。通过本发明制备方法制备得到纯度≥99.995%、氧含量≤20ppm的钌钽合金靶材,使得钌钽合金靶材作为扩散阻挡层材料使用时,具备较低电阻,同时阻挡性能较为优异,从而提高扩散阻挡层薄膜性能。
天眼查资料显示,云南贵金属实验室有限公司,成立于2021年,位于昆明市,是一家以从事有色金属冶炼和压延加工业为主的企业。企业注册资本10000万人民币,实缴资本3000万人民币。通过天眼查大数据分析,云南贵金属实验室有限公司共对外投资了4家企业,参与招投标项目16次,专利信息193条,此外企业还拥有行政许可3个。
本文源自:金融界
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