苏大维格通过其研发的“iGrapher3000”设备,用纳米画笔改写了光刻技术格局。
微纳世界的“打印机”:该设备以0.1微米的超精度,在光电子材料表面“绘制”肉眼不可见的微纳结构,能在1平方米基板上“雕刻”出比发丝细千倍的图案。它是全球首款110吋幅面紫外3D直写光刻设备,被研发团队称为“微纳世界的打印机”,正在颠覆柔性显示、AR眼镜等20余个高端制造领域的技术格局12。
积极布局新技术领域:苏大维格已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力,并在积极布局。此外,公司在半导体、光电子、新材料创新方面也取得了进一步进展34。
苏大维格的这一创新不仅推动了光刻技术的发展,也为相关高端制造领域带来了新的技术突破和应用前景56。
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