1. 产品纯度与技术水平
顶立科技生产的高纯碳粉(用于制备碳化硅)最高纯度可以达到6N及以上(即 ≥99.9999%),并且能够将B、Al、V等关键杂质含量控制在<50PPB(十亿分之一)的水平。这使其整体技术达到国际先进水平,实现了进口替代,填补了国内先进材料的缺口。
2. 生产与产业化状况
目前,顶立科技的高纯碳粉产品已实现小批量生产,但整体仍处于技术中试阶段。公司正积极推进产业化步伐,以满足不断增长的市场需求。其位于长沙的星沙产业基地已具备年产10吨高纯碳粉的生产能力。
3. 技术攻关与突破
顶立科技通过自主创新,重点攻关了SiC/GaN半导体制备的核心技术难点,突破了关键杂质深度去除、纯度均匀性控制等关键技术。这些技术助力破解了制约我国第三代半导体产业发展的瓶颈。
4. 应用领域
顶立科技生产的超高纯碳粉以及其攻克的热场材料(统称为“四高两涂”产品,包括高纯碳粉、高纯碳化硅粉、高纯碳纤维隔热材料、高纯石墨、碳化硅涂层石墨构件、碳化钽涂层石墨构件),性能指标国内领先,广泛应用于半导体、核电、电子电器、光伏以及航天航空等领域。
总结
顶立科技确实生产用于碳化硅单晶生成的高纯碳粉(碳源),其技术能力也涵盖了高纯碳化硅粉的制备。公司在此领域技术领先,正致力于产业化扩张,为我国第三代半导体产业链提供关键材料支持。
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