光刻胶现状和未来

光刻胶分为紫外宽谱，g线，I线，KrF，Arf, Immersion和EUV等，紫外宽谱，g线，I线这些由于线宽较长，主要用在对线宽要求不高的PCBA和显示设备，分立器件比如可控硅，MOSFET中，至于KrF可以从BCD工艺一直用到14nm,确实可以这么广告的说，但是实际上KrF最小只能做到120nm的样子，而说用到14nm,　主要是用在金属层，关键的层还是要用ArF和Immersion !!!

目前从公开的资料看能够做Krf的上市公司几乎没有，彤程新材的子公司北京科华算是比较早能够做g线,I线和Krf的，而且产生了销售１个多亿，容大更是没有做KrF，主要是做PCBA和显示用的光刻胶，上海新阳也没有看到有krF和Arf，还是做实事的少，炒作的成分多

而Arf有真真的投入在做的吗？南大光电财报说他们这个项目推迟了，预计投入1.5亿，但是延迟投入（半年报内容）

那么Arf如果真的出来了能够代替Krf吗，Arf比较薄，机台也比较贵，更重要的是Arf的掩模版也是Krf的好几倍，所以Arf即使国内出来了也不可能通过Arf代替Krf的，也没有必要代替

由于光刻胶不能长期保存，一单限制是无法获得，不能备货，所以光刻胶的问题亟待解决，静待国内光刻胶技术突破，特别是Arf和Immersion，而能够用这个的也就2-3个国产的fab，所以市场不会容量那么多的光刻胶企业的，所以真正的做Arf的国内企业也就1-2个获得实惠，很多只是炒作，大家睁大眼睛