财联社11月28日讯，上海微电子装备（集团）股份有限公司（下文简称：上海微电子）今日公开了其最新的光刻机相关专利。
据天眼查显示，上海微电子公开的专利名为“投影物镜光学系统及光刻机”。
该专利摘要显示，本发明提供了一种投影物镜光学系统及光刻机，所述投影物镜光学系统沿其光轴方向从物面到像面依次包括：第一透镜组、第二透镜组、光阑、第三透镜组与第四透镜组。
其中，所述第三透镜组与所述第二透镜组关于所述光阑对称，所述第四透镜组与所述第一透镜组关于所述光阑对称，所述投影物镜光学系统是对称结构，且所述投影物镜光学系统中所有的透镜组均具有正光焦度，以此可以在提高成像质量的基础上，增大曝光系统的视场尺寸，提升产率。
东方明珠通过上海泰力间接持有上海微电子2%股份
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