氩离子抛光技术又称CP截面抛光技术，是利用氩离子束对样品进行抛光，可以获得表面平滑的样品，而不会对样品造成机械损害。去除损伤层，从而得到高质量样品，用于在SEM，光镜或者扫描探针显微镜上进行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC或其它分析。金鉴实验室拥有专业LED质量工程师团及精密的仪器设备。同时，CP截面抛光仪制样广泛，可用于于各种材料样品（除了液态）的制备，适应大多数材料类型，对大面积、表面或辐照及能量敏感样品尤佳，有钢铁、地质、油页岩、 锂离子电池、光伏材料、陶瓷、金属(氧化物,合金)、 高分子，聚合物、薄膜、半导体、EBSD样品、生物材料等包括平面抛光与截面抛光。
氩离子抛光技术原理
氩离子切割技术是一种利用宽离子束（〜1mm）来切割样品，以获得宽阔而精确的电子显微分析区域的样品表面制备技术。一个坚固的挡板遮挡住样品的非目标区域，有效的遮蔽了下半部分的离子束，创造出一个侧切割平面，去除样品表面的一层薄膜。
氩离子抛光技术又称CP截面抛光技术，是对样品表面进行抛光，去除损伤层，从而得到高质量样品，用于在SEM，光镜或者扫描探针显微镜上进行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC 或其它分析。
锂电池正极片氩离子抛光(CP离子研磨)制样后效果图
锂电池正极片氩离子抛光(CP离子研磨)制样后效果图
锂电池正极片氩离子抛光(CP离子研磨)制样后效果图
锂电池正极片氩离子抛光(CP离子研磨)制样后效果图
（正极片氩离子抛光制样后效果图-如上图所示-金鉴实验室罗工提供）
锂电池负极片氩离子抛光(CP离子研磨)制样后效果图
锂电池负极片氩离子抛光(CP离子研磨)制样后效果图
锂电池负极片氩离子抛光(CP离子研磨)制样后效果图
（负极片氩离子抛光制样后效果图-如上图所示-金鉴实验室罗工 提供）
电池隔膜氩离子抛光制样后效果图
电池隔膜氩离子抛光制样后效果图
电池隔膜氩离子抛光制样后效果图
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