$石英股份(SH603688)$  普通石英玻璃材料甚至是一般的高纯石英玻璃也不能胜任。因为电熔、气炼、连熔、CVDPCVD等工艺技术制备的单一组分高纯石英玻璃材料,在氟系气体或HF腐蚀液等强腐蚀性和高温环境中均会被快速腐蚀破坏,无法满足半导体刻蚀的应用要求,因此集成电路刻蚀过程必须使用耐腐蚀性的石英玻璃材料及制品
在此方面,目前德国贺利氏和日本东曹石英等公司技术较为领先,具备批量生产抗腐蚀、耐久性石英玻璃的能力,并已广泛应用于半导体的刻蚀等工艺过程。日本东曹石英公司研究了在高纯石英粉中掺入一定原子百分比的Al和元素M(包括周期表第2A族元素、第3A族元素及第4A族元素中的一种以上元素的单掺或共掺)获得掺杂混合料,再通过电熔或气炼熔制该掺杂混合料制得耐久性石英玻璃,其腐蚀耐久性原理是Al和元素M的氟化物的沸点或升华温度对SiF4的沸点或升华温度高,故在氟系气体及等离子体环境下刻蚀时石英玻璃表面上浓缩添加元素的氧化物或氟化物,起到如同有保护膜的作用,从而提高石英玻璃的腐蚀耐久性。

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