万润股份有光刻胶概念。该公司在光刻胶领域的相关情况如下：



1. 专利技术：

- 2024 年 2 月，取得“一种用于 193nm 水浸式光刻胶顶层涂层的聚合物及其制备方法和顶层涂层组合物”专利，授权公告号 cn116003681b。

- 2023 年 11 月，申请“一种用于光刻胶顶层涂层的聚合物、制备方法及应用”，公开号 cn117304394a，光刻胶为 193nm 浸没式光刻胶。

- 2023 年 12 月，申请“一种光刻胶单体化合物及其制备方法和应用”，公开号 cn117362164a。

- 2024 年 3 月，申请“用于光刻胶底部抗反射涂层的聚合物及制备方法和应用”，公开号 cn117872680a。

2. 产品供应：

- 光刻胶单体、pi、半导体清洗剂添加材料等均有相关产品实现批量供应，处于发展中。

- 公司“年产 65 吨光刻胶树脂系列产品项目”已投入使用，可根据客户需求提供半导体用光刻胶树脂材料，半导体材料业务整体业务发展良好，其产品主要包括光刻胶单体、光刻胶树脂、光致产酸剂以及半导体制程中清洗剂添加材料等，下游市场开发工作持续推进。



综上所述，万润股份在光刻胶领域有技术研发和产品生产供应方面的布局与进展，具备光刻胶概念。