公司的微纳光学高端设备主要包括激光直写光刻设备和纳米压印光刻设备等，均系公司自主研发设计生产，在满足公司研发与生产需求的基础上，通过持续的设备迭代与升级，逐步构建了公司模块化、知识密集、可升级和快速配置的微纳制造平台，为公司技术与产品的开发、维护等提供了核心技术支持。依靠多年的技术研发，公司形成了大幅面图形直写、深纹/3D/灰度光刻等一系列拥有自主知识产权的直写光刻核心技术及纳米压印技术，公司从成立初期开发干涉光刻系统，逐步迭代延伸出了紫外高速干涉光刻、任意图形直写光刻、多类型衬底基片直写光刻、大型紫外  3D  光刻等多系列、多型号的激光直写光刻设备，经历了自用——反馈改进——销售给高校及科研单位——反馈改进——销售给企业用户的较为漫长的过程，应用领域也逐步从证卡防伪拓展到透明导电薄膜、AR  波导片及裸眼3D  光场屏等衍射光学器件，再扩展到泛半导体器件等，可为国内外高等院所和相关企业提供前沿性和实用性纳米光刻工具。