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苏大维格：自主研发助力“智能制造”，为前沿研究与成果应用插上创新的翅膀

原创 势银膜链 势银膜链

 2024年01月02日 12:02 浙江 8人听过

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目前，大面积微纳制造属于纳米科技领域重大难题。国内相关技术和设备长期依赖引进，导致产业上游材料与器件形成若干卡脖子问题。

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来源：苏大维格

作为微纳光制造领域的开拓者，苏州苏大维格科技集团股份有限公司（以下简称“苏大维格”）正致力于微纳光学与柔性制造基础方法与高端装备、材料与器件研究。公司成立于2001年，并在2012年于深交所上市（股票代码：300331），已成长为国内领先的微纳结构产品制造和技术服务商，通过自主研发微纳光学关键制造设备，建立了微纳光学研发与生产制造的基础技术平台体系。

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来源：苏大维格

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20余年深耕微纳光学设备领域

在高端智能装备方面，苏大维格的微纳光学高端设备主要包括直写光刻设备和纳米压印设备两类，均系公司自主研发设计生产，在满足公司研发与生产需求的基础上，通过持续的设备迭代与升级，逐步构建了公司模块化、知识密集、可升级和快速配置的微纳制造平台。

苏大维格表示：“历经20余年的努力，公司研制的紫外直写(数字)光刻机、大型紫外计算光刻机、纳米压印光刻系统、大面积干涉光刻机等装备，在企业、高等院校所被广泛应用，服务于国家战略、产业科技进步和人才培养，为开辟新赛道，培育新产品新技术，做出突出贡献。”

目前，公司直写光刻设备已服务国内百家企业高校和国家级研究所、出口发达国家，并实现与国内高新龙头企业的长期合作。科技部和财政部联合发布的通知（国科发基〔2020〕342号），激光直写光刻设备中前排出现的唯一国产品牌。

此外，公司还能提供应用于IC芯片投影式光刻设备的核心部件定位光栅尺产品，并在积极拓展光刻机设备在太阳能光伏电池铜电镀方案图形化方面的应用。

在产品突破上——

研制的110吋紫外三维直写光刻装备投入工业运行，填补国内空白。攻克超大面积上复杂微纳形貌的高精度与高效率兼容性光刻国际难题，实现海量数据网络协同与实时高速直写光刻。

国家科技进步奖二等奖

（2001年度，2011年度，2019年度）

首届“金燧奖”中国光电仪器品牌榜金奖

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来源：苏大维格

攻克卷对卷纳米压印技术微纳结构模具、系统、材料和工艺四大难题，在国际上率先实现工业化，自主研制行业首套卷对卷套准纳米压印工艺设备在国内外新型显示、公共安全和柔性传感等领域规模应用。

江苏省科学技术一等奖3项

（2011年度、2018年度、2022年度）

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来源：苏大维格

发明了“多台阶二元光学数字光场叠加写入模式”和“灰度数字模板”，通过光场灰度调控与积分写入，将微纳3D形貌的直写效率提高2ⁿ倍。通过算法、内存数据、光场的同步操作、连续扫描-脉冲曝光,单次扫描实现多次叠加,实现了微纳3D形貌快速制备。

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来源：苏大维格

在设备研发上——

光刻技术的发展方向是：数字化、多维化。20多年来，苏大维格坚持原创性光刻技术与设备的自主开发，研究数字光场调控（振幅-相位联合）新机理，提出了数字化三维直写光刻系统的新构架、新算法。

『中小幅面光刻设备』

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小型直写光刻系统（4”～8”）

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紫外三维光刻系统（8”～12”）

*支持亚波长线宽的直写光刻系统，支持100nm线宽周期结构@355nm波长、0.35um线宽的图形和复杂微结构形貌等套刻制备，还支持偏振光刻/正交偏振光刻功能，用于手性偏振敏感的光子器件开发。

『中大型光刻设备』

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紫外三维计算光刻设备（32”～55”，75”～120”）

*支持0.5um以上图形化、微纳结构的大面积直写光刻。应用于大尺寸透明电子、立体成像、光场空间成像、大口径平面光学器件等产品开发。

『像素化纳米光刻设备』

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像素化干涉光刻、像素化偏振光刻

*光刻性能：像素光栅周期（>250nm@355nm波长下）、具有小于1nm的结构调控精度、任意光栅取向和周期光场的调控能力，支持8”～32”像素纳米光栅大面积直写光刻。已应用于光场3Ｄ显示、超表面和光子器件等前沿研究与应用。

『光伏图形化高速投影扫描光刻设备』

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高速图形化

*消除感光胶厚度不均匀、基片翘曲和衍射效应与槽型的影响，深槽光刻速率<1s@面积210mmx105mm，光场拼接与同步扫描光刻模式，优异的槽型一致性和均匀性。

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坚持自主创新，助力产业升级

作为国内极少的、在光刻技术与应用领域持续做原创性创新的企业，苏大维格以自主知识产权的技术与装备，为破解中国“两头在外”问题，做出了贡献和示范。

公司先后获3项国家科技进步二等奖，7项中国专利优秀奖和5项江苏省科学技术奖、“2022中国智能制造十大科技进展”等荣誉。

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同时，公司还建有国家地方联合工程研究中心(国家发改委批准)、江苏省柔性光电子与制造技术重点实验室 (2022年验收全省第一)和国家知识产权示范单位(千余项专利)等。

苏大维格表示，未来，公司将继续提升微纳制造业快速发展新产品、新技术和新产业的能力，为新兴领域（三代半导体工艺、功能表面、新型显示、 空间感知、超表面、太赫兹、二维材料、元宇宙、MEMS、微光学、柔性 光电子与透明电子材料、光掩模板）的研究，提供全数字化光刻加工的新路径，助力实现换道超车。为国家的相关底层关键技术进步、产业核心竞争力的提升，做持续的努力与贡献。

来源：苏大维格、势银膜链

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