东田微之黑科技

$东田微(SZ301183)$  

东田微的黑科技主要体现在以下几个方面：

• 精密光电薄膜元件领域积累的丰富经验和核心技术：东田微在精密光电薄膜元件领域积累了丰富的行业经验，并掌握了光学镀膜材料配比开发、光学膜系设计、光路设计、真空蒸发镀膜、磁控溅射镀膜以及精密加工等多项核心技术。

• 高强度超薄蓝玻璃红外截止滤光片技术：东田微耗时近3年研发生产出高强度超薄蓝玻璃红外截止滤光片，其较同厚度的日本JSR树脂材料具有更高透过率、更低反射率的优异光学效果，已搭载在OPPO、传音等主要机型摄像头模组中。

• 光学管帽结构的创新设计：东田微获得国家知识产权局授权的一项新专利——“一种光学管帽结构”，此专利的授权公告号为CN221946223U，申请日期为2024年3月。这一创新设计不仅在光学管帽的结构上做出了突破，更是为后续模具加工过程的稳定性提供了全新的解决方案。

• CWDM/DWDM光器件滤光片技术：东田微在光通信领域积极进行产品布局，持续进行新产品研发和工艺改进，已批量生产TO管帽和GPON滤光片。公司采用磁控溅射镀膜方式生产CWDM窄带滤光片，缩短产品成膜时间，降低生产成本，且将通带Ripple值控制在0.15dB范围内，并保持了较高产品良率，产品一致性、可复制性较传统蒸发镀膜技术更加优异。

• 旋涂技术在滤光片上的应用：东田微因为其独特的技术壁垒在旋涂滤光片上领先优势非常大，华为给了一半滤光片订单，P70单机滤光片单机价值量预计在1620元，对东田微收入贡献可达1.6-2亿。这些黑科技不仅展示了东田微在光学光电子领域的技术实力，也预示着公司未来在光学制造行业的发展潜力和市场竞争力。