11.14日有记者提问，据报道，美国商务部已致函台积电，对运往中国的某些用于人工智能加速器和图形处理单元的7纳米或更先进设计的复杂芯片实施出口限制。商务部新闻发言人何咏前表示，中方注意到了有关情况。一段时间以来，美方不断滥用出口管制措施、实施长臂管辖，持续加严对华半导体打压遏制，割裂全球半导体市场。
自主可控国产替代这块大概率会有持续的消息催化，尤其是普上台还提名特别对华鹰派人物做国务卿。
公司具备光刻机、光刻胶双重概念，也是7纳米芯片所需多重曝光技术所对应的半导体设备硬件国产自主可控的重要参与者！
公司目前在薄膜沉积领域的臭氧专用设备，可以满足7nm制程以下的半导体设备需求。这里的半导体设备包括光刻机，因为公司就在做光刻机清洗配套的产品设备。7nm制程也是目前国产芯片的最先进的，与华为的不谋而合。
11月14日讯，国林科技有投资者向国林科技提问， 请问公司半导体清洗设备在大厂验证是否顺利？！
公司回答表示，尊敬的投资者，您好。公司半导体专用臭氧清洗设备目前验证一切顺利，如符合重大合同信披标准公司将及时进行披露。感谢您的关注。
业绩短期承压，乙醛酸产能利用率提升在望
臭氧氧化顺酐法”制高品质晶体乙醛酸实现对传统生产工艺的迭代升级；半导体各类产品可对标进口设备并部分优于进口设备，目前公司各系列产品已交付多家客户进行验证且部分产品已配套至终端客户运行使用中。公司将围绕自身优势，立足主业，未来将形成“多点开花”的综合性发展格局。
公司传统臭氧业务稳健发展，且后续将根据市场情况上调乙醛酸产品售价，按照生产经营计划及市场供需情况合理安排乙醛酸产品的销售结构和节奏，未来乙醛酸业务有望实现扭亏，同时半导体专用臭氧清洗设备验证工作正在有序进行，看好公司未来长期发展。
国林科技目前和同类股相比涨幅最少、小盘市值小成长高，从题材来说还是比其他的有想象力的。$光刻机(胶)(BK0884)$ $半导体(BK1036)$ $国产芯片(BK0891)$
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