$茂莱光学(SH688502)$  

在半导体蚀刻和光刻领域,PEEK材料的应用非常关键,以下是一些具体的应用实例:

1.  CMP固定环:

•  化学机械研磨(CMP)是半导体制造工艺中的一个重要阶段,PEEK材料因其高尺寸稳定性、易于加工、良好的机械性能、耐化学腐蚀性以及耐磨性,被用于制造CMP固定环,以固定晶圆。与PPS材料相比,PEEK制成的CMP固定环具有更强的耐磨性,使用寿命延长一倍,减少故障停机时间,提高晶圆产能。

2.  晶圆载具:

•  PEEK材料也用于制作晶圆载具,包括晶圆承载盒、晶圆传送盒等。这些载具需要耐高温、机械性能优异、尺寸稳定性以及坚固耐用、防静电、低释气、低析出、可回收再利用的材料。PEEK因其耐磨性、耐化学腐蚀性、尺寸稳定性、抗静电性和低脱气等特性,在晶圆搬运、存储和转移中提高可靠性。

3.  光罩盒:

•  在光刻工艺中,光罩是使用的图形母版。PEEK材料因其高硬度、极少的颗粒产生量、高洁净度、抗静电、耐化学腐蚀性、耐磨损性、耐水解性、电介质强度及出色的耐辐射性能等特性,被用于制作光罩盒,以保持光罩片存储在低脱气和低离子污染的环境中。

4.  耐等离子部件:

•  在蚀刻过程中,PEEK材料因其耐化学性和耐磨损性,被用于制造耐等离子部件,这些部件能够承受蚀刻过程中的等离子体环境。

5.  沉积腔体内衬:

•  在沉积过程中,PEEK材料可以作为沉积腔体内的衬里材料,因其能够在高温和化学环境中保持稳定性。

6.  测试插座:

•  PEEK材料也用于半导体测试插座的制造,因其耐高温特性、尺寸稳定性、低释气性、低颗粒脱落、耐化学腐蚀和易加工等特性。

这些应用展示了PEEK材料在半导体蚀刻和光刻领域中的重要性,其高性能特点使其成为这些领域中不可或缺的材料之一。

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