《英诺激光推进光刻机进程》

$英诺激光(SZ301021)$  

根据搜索结果，英诺激光在光刻机领域的进展可以总结如下：

• 与上海微电子的合作：英诺激光在DUV光刻机方面与上海微电子展开合作，上海微电子的28nm精度光刻机已经通过技术认证，双方在光源技术方面进行合作。

• 技术投入与研发：英诺激光持续在半导体领域投入研发，提供的产品以碳化硅退火制程的激光器为主，也有少量应用在硅基半导体检测等关键制程的紫外和深紫外激光器。

• 核心部件研发：英诺激光成功自主研发出光刻机的核心部件，这一关键技术的突破意味着国产光刻机在追赶全球先进水平的道路上迈出了坚实的一步。

• EUV光源技术：英诺激光的大能量、高重频超快激光产品是支撑EUV光源预脉冲的核心技术，助推EUV光刻机激光光源国产化。

• 产业化项目：英诺激光已立项“高功率薄片超快激光器关键技术与产业化”项目，努力推进大能量、窄脉宽、高重复频率、高峰值功率和高平均功率的激光技术落地。

• 市场前景：考虑到英诺激光作为可供货ASML和上微的激光器的稀缺技术驱动型公司，随着国内光伏限产，公司凭借自身技术优势，市场份额有望重估。

• 业务合作：英诺激光通过激光设备集成商服务于众多消费电子终端企业，包括与华为的间接合作。

综述，英诺激光在光刻机领域取得了显著的技术进展，并与国内外多家企业建立了合作关系，推动了国产光刻机技术的发展。