由贵研铂业承担的云南省国际合作计划专项——“半导体器件用镍铂靶材的制备关键技术及产业化”取得重大突破，建立了生产线并取得良好经济效益，镍铂靶材替代了进口同类产品并远销海外。同年，靶材项目获得2018年度中国有色金属工业科技进步一等奖。
据(《2017年中国半导体靶材行业发展概况》中国产业信息网)的分析，目前全球主流溅射靶材按照应用领域可以分为半导体集成电路用靶材、平面显示用靶材、建筑及装饰用靶材、太阳能光伏用靶材等，而溅射靶材是制备稀贵金属薄膜(电子信息产业起核心支撑作用的战略性材料)的关键源材料，已成为电子信息产业的核心材料之一。其中，半导体集成电路用的溅射靶材技术要求最高，最苛刻。
“在此之前，全球一半以上的半导体材料均来自日本。自贵研铂业2009年起开展含铂磁性靶材制备技术研究以来，在云南省科研院所技术开发专项和云南省国际合作计划项目的支持下，开展半导体和磁存储用靶材的研究。”云南省科技厅相关负责人说，贵研铂业通过真空熔铸及塑性加工、高纯粉末制备及热压成型、反应合成及热等静压成型等方面的研究，成功制备出NiPt、CoCrPtB、Ru及CoCrPt-SiO2等靶材。
《证券日报》记者从可靠渠道也了解到，贵研铂业目前已经建成了一条年产1500片稀贵金属溅射靶材生产线
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