超高纯铝溅射靶材可用于制造高端芯片 我国市场国产化进程加快

2024-10-25 16:34      责任编辑：杨光    来源：www.newsijie.com    点击： 41 次

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        超高纯铝溅射靶材，又称超纯铝溅射靶材，指以纯度达99.9995%的高纯铝为基材，经深加工制成的金属溅射靶材。超纯铝溅射靶材具备导热性好、导电性佳、密度高、纯度高等优势，在半导体芯片、光伏发电、显示器件等领域拥有巨大应用潜力。

        超高纯铝溅射靶材以高纯铝为基材制成。高纯铝主要制备方法包括偏析法、三层法两种。偏析法指以电解铝液或金属熔融铝为原材料，经加热、冷却、提纯等流程制得产品，具有绿色环保、能耗低等优势；三层法又称三层液电解精炼法，具有成品质量好、成品收率高等优势，可用于制备超高纯铝，但其能耗较大。随着技术进步，我国高纯铝产量不断增长，这将为超高纯铝溅射靶材行业发展奠定良好基础。

        根据新思界产业研究中心发布的《2024-2029年中国超高纯铝溅射靶材行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示，超高纯铝溅射靶材在众多领域拥有巨大应用潜力，包括半导体芯片、光伏发电、显示器件等。在半导体芯片领域，超高纯铝溅射靶材可用于制造模拟芯片、存储芯片、微机械芯片以及逻辑芯片等。近年来，全球半导体产业逐渐向我国大陆转移，带动芯片产量不断增长。据国家工信部统计数据显示，2023年我国芯片产量达到3514亿块，同比增长6.9%。超高纯铝溅射靶材为高端芯片重要基材，未来随着下游行业发展速度加快，其市场空间将进一步扩展。

        在行业发展初期，受技术壁垒高、生产成本高等因素限制，我国超高纯铝溅射靶材市场被海外企业占据主导。德国sindlhauser公司、挪威海德鲁公司（Norsk Hydro A.S.）为全球超高纯铝溅射靶材代表企业。在本土方面，受益于国家政策支持以及技术进步，我国超高纯铝溅射靶材市场国产化进程有所加快。新疆众和股份有限公司、宁波江丰电子材料股份有限公司为我国超高纯铝溅射靶材代表企业。新疆众和具备6N级高纯铝批量生产能力，其技术水平达到全球领先，目前产品已在半导体领域获得应用。

        新思界行业分析人士表示，超高纯铝溅射靶材作为一种超高纯金属溅射靶材，在半导体制造领域需求旺盛。未来伴随技术进步，我国超高纯铝溅射靶材市场占比将进一步提升。在市场竞争面，新疆众和具备超高纯铝溅射靶材规模化生产能力，占据我国市场较大份额。

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