至于性能嘛,不同的靶胚材料各有特点。比如铜靶的电阻很低,对芯片集成度的提高非常有效,因此在110nm以下技术节点中被大量用作布线材料;钽靶则主要用在12英寸晶圆片90nm以下的高端半导体芯片上作为阻挡层;铝靶在制作半导体芯片导电层方面应用甚广,但因其响应速度方面的原因,而在110nm以下技术节点中很少应用;钛靶则主要用在8英寸晶圆片130nm和180nm技术节点上也是作为阻挡层呢。
总之,不同的靶胚材料具有不同的特点和性能,适用于不同的半导体制造工艺和技术节点哦。
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