二、技术实力

• 研发投入大：2024年前三季度，公司的研发投入已达9.1亿元，同比增长82%，研发投入佔比达到16.6%。持续的研发投入使得公司在技术创新上保持领先地位，能够不断推出满足市场需求的新产品和新技术。

•核心技术领先：公司的ccp（高能等离子体刻蚀）产品已全面覆盖28nm及以下制程，并成为国内唯一一家在5nm级别实现量产出货的企业。针对超高深宽比刻蚀，公司自主研发的primoud-rie具备量产超过60:1深宽比结构的能力。

三、市场竞争力

•产品市场份额高：刻蚀设备是中微公司的主营业务，占公司营收的80%。在国内刻蚀设备市场，中微公司具有较高的市场份额，且在全球市场也具有一定的竞争力。

•客户资源优质：公司与多家全球知名半导体企业建立了合作关系，如t.积电、三.星、英.特尔等。优质的客户资源不仅为公司带来了稳定的收入和利润，也提升了公司的品牌知名度和市场影响力。

四、产能扩张能力

自2023年起，公司的多个产业化建设项目陆续投产。与2022年相比，预计到2025年公司厂房面积将扩大15倍，更好地满足行业上行周期的需求。2024年前三季度，公司生产专用设备1160腔，同比增长310%，对应产值94.2亿元，同比增长287%，满足了后续订单的需求。

五、业务拓展能力

公司构建了“刻蚀 薄膜 量检测”的业务组合，覆盖了约30%的集成电路设备种类。在薄膜设备方面，公司进展迅速，继2023年推出4-5款新品后，2024年又陆续推出了10多款产品。其中，公司的钨系列薄膜沉积产品可覆盖存储器件所有钨应用，并已完成多家逻辑和存储客户对cvd/har/aldw钨设备的验证，部分产品已获得重复订单。

六、核心人才与管理体系

公司创始人尹志尧是等离子体刻蚀设备领域的领先者，拥有丰富的行业经验和技术实力。此外，公司还汇聚了全球经验丰富的人才，硕士及博士研究生占研发人员比例达50.98%。

中微公司以研发创新为核心驱动力，通过专注高端半导体及泛半导体设备领域、持续加大研发投入、积极拓展国内外市场、深化客户关系管理、整合产业链上下游资源以及坚持“四个十大”管理原则等措施（附资料），实现了公司的稳健发展和持续增长。

七、内部环境

国家近年来采取了多项政策来支持高科技企业的发展，包括资金扶持、减税降费等一系列措施。这些政策无疑为中微公司的成长提供了良好的外部环境，进一步增强了投资者对公司的看好。

八、外部环境

中微公司及其投资方I*G资本已从C.C黑名单中移除，释放了公司的外部环境压力，也向市场传递了更为积极的信号，为公司在技术、市场和融资方面带来了新的机遇。

【附资料】

中微公司的“四个十大”管理原则：

• 产品开发的十大原则

1.为达到设备的最高性能和客户最严要求而开发；

2.为技术的创新、设备的差异化和IP保护而开发；

3.为实现加工的重复性和反应器一致性而开发；

4.为确保设备的可靠性和耐用性而开发；

5.为达到极少的微粒和避免器件损害而开发；

6.为设备容易制造和容易维护而开发；

7.为设备模板化、同制化、容易改进和升级而开发；

8.为设备安全性和环境保护而开发；

9.为设备的高输出、低成本、低消耗和高利润而开发；

10.严格遵循五阶段的产品开发管理流程（PDP）。

• 战略销售的十大准则

目前暂未有公开详细资料显示中微公司战略销售的十大准则的具体内容，但尹志尧曾提到战略与运营方式的十大原则包括三维市场战略强调多元化发展，设备的开发要以客户、市场为导向，要面向更广大的国际市场，要学会与其他优秀厂商的合作等。

• 营运管理的十大章法

1.目标管理制度（MBO）；

2.指标管理制度（KPI）；

3.民.主集中.制的决策机制；

4.全员持股的股权期权激励制度；

5.跨部门合作的矩阵管理制度；

6.严格且智能的生产管理制度；

7.系统的供应链和质量管理制度；

8.严格的知识产权管理制度；

9.季度审查总结会制度（QCR）；

10.七个利益.集团的合作共赢原则。

• 精神文化的十大作风

中微公司的精神文化主要强调自强不息与厚德载物，但暂未有更多关于精神文化十大作风的详细阐释。