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$中微公司(SH688012)$   

接连传出美国,荷兰的消息。我的直觉是,国产替代迫在眉睫。有条件要上,没有条件创造条件也要上。

就像那些年,不用去想为什么把家里的锅拿去炼钢,然后造锅。我们只要知道钢铁产量赶英超美就可以了。

这一方面是要烧钱;另一方面,不管质量如何,精度如何,国产必须上!

我这里想了两个标的:都是关于光刻机(胶)刻蚀机,中微公司和柯玛科技,更细的逻辑明天再收集。这里先抛砖引玉。其他标的还有很多。看下图。

另外转帖推荐一份:【中信电子】荷兰出口管制扩表,加速部分领域设备国产替代

[[玫瑰]]各位投资人好,为了弄清楚这次荷兰半导体设备出口管制修订了什么,我们查阅了荷兰政府网站。【结论是这个设备出口管制以前就存在,本次主要是增加了一些限制的设备品类,目标是与美国2310月的设备出口管制清单看齐】。该修正案将于202541日生效,但该法规生效之日之前的先进半导体生产设备法规将继续适用之前授予的许可证。

[[玫瑰]]此前荷兰主要是限制高端光刻设备,【这次新增涉及到了一些先进制程用特定的量检测设备、沉积设备和计算光刻软件等。】

1、外延设备:Si、GeSi外延设备

2、ALD设备:金属Mo/Ru ALD设备、TiAlC ALD沉积设备、高深宽比PEALD设备

3、CVD设备:高深宽比PECVD设备、金属W/Mo CVD沉积设备

4、量检测设备:小于等于21nm精度的检测设备(含有采用波长小于400nm光源/分辨率小于1.65nm/两个或多个电子束源/冷场发射电子束源),用于显影后或刻蚀后测量晶圆对准精度的设备。

5、计算光刻软件:用于开发或生产DUV光刻掩膜的计算光刻软件。

[[玫瑰]]此外,受限的光刻机主要包括:

1、DCO套刻精度小于等于1.5nm的DUV及更先进的EUV光刻机,对应ASML 2000i型号及以上;

2、DCO套刻精度1.5nm<DCO≤2.4nm的DUV光刻机,对应ASML 1980i/1970i型号。

目前看,【限制的措施和202496日荷兰政府更新的限制比没有变化,出口此类先进制造设备时必须申请授权】,政府将根据具体情况对申请进行评估,措施适用于从荷兰出口到欧盟以外的目的地。

[[太阳]]我们认为,荷兰针对先进设备的采购限制力度在逐渐加大,目前光刻机的采购审批还是由荷兰政府决定,后续在美国政府的施压下,不排除进一步收紧限制的可能。

[礼物]国内关注替代企业:

1、量检测设备:中科飞测精测电子中微公司等;

2、光刻设备产业链:茂莱光学福晶科技,福光科技,创元科技腾景科技奥普光电

3、沉积设备:北方华创拓荆科技微导纳米,中微公司,盛美上海等;

$珂玛科技(SZ301611)$   

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