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申请(专利权)人

中光学(上海)科技有限公司

河南中光学集团有限公司

本发明公开了一种基于超构光栅的偏振分束器,包括依次层叠的均匀二维光栅层、衬底介质层及非均匀二维光栅层,所述均匀二维光栅层通过尺寸相同的多个纳米柱呈正方形周期性均匀排列组成,均匀二维光栅周期等于超构光栅周期的一半;均匀二维光栅层是在超构光栅的一个立方体元胞的外表面分布9个纳米柱而成,上述9个纳米柱包括位于正方形四个顶点、位于正方形四个边长中点及位于正方形中心的第一纳米柱;所述非均匀二维光栅层构造于衬底介质层,通过尺寸不同的多个纳米柱呈正方形周期排列组成,各纳米柱各自形成的周期排列在水平方向上相互偏移半个周期,非均匀二维光栅周期等于超构光栅周期。与现有技术相比,本发明构造出的二维光栅具有大的设计自由度以灵活调节各衍射级次的传输效率,具备高消光比、体积小易于集成、且偏振光分束在两个正交的平面上等优点。

一种用于AR光波导双目模组的双目合像方法本发明公开了一种用于AR光波导双目模组的双目合像方法,AR光波导双目模组包括光机组和镜片组,光机组为左右双侧光引擎,镜片组提供左右双侧光波导镜片,该AR光波导双目模组在装配时,先将双侧光引擎调整好位置和角度,之后将双侧光引擎当作一个整体,双侧光波导镜片当作一个整体,最后将双侧光波导镜片整体进行装配;为了AR光波导双目模组实现双目合像目标的总视场角值,双侧光引擎的光按照一定视场角出射,且在特定位置中双引侧光引擎在相机中呈现大小、位置及角度均相同的像,以确定光引擎已完成入射到光波导镜片前的调节。与现有技术相比,本发明不仅减少双目合像过程中的调节变量,降低合像装置的搭建成本,而且可以适当调节成像角度。

本发明公开了一种防漏光的AR衍射光波导显示装置,包括微光机和光波导主体,在光波导主体上设置有周期相等的耦入光栅和耦出光栅,在微光机和光波导主体间设保护玻璃,保护玻璃上设置有金属线栅结构。金属线栅的区域长度和宽度要大于耦出光栅耦出区域的长度和宽度,金属线栅的周期足够小使得光经过金属线栅只有0级分量,金属线栅的周期方向垂直于泄露光的偏振方向,抑制泄露光透过保护玻璃。本发明可以抑制衍射光透过保护玻璃泄露到外界环境,从而保护了用户的隐私,并且同时这部分光反射到AR光波导被重新利用,增加了人眼侧的光强。

纳米压印光栅偏振器是通过纳米压印技术制作的,这种技术可以实现高分辨率、高产出和低成本的大面积纳米结构复制。

纳米压印技术(NIL)是是一种微纳米尺度精度的先进制造工艺。它通过精准地将微纳米结构图案压印到基材上,可实现纳米级精度与分辨率,具有工艺简单、产量高、生产成本低、适合工业化生产等优势,能满足MEMS传感器、生物细胞培养膜、芯片制造、光子晶体等领域对微纳结构制造的高精度和高效能需求。近年来,纳米压印技术在光学光子元件、生物芯片、能源器件等领域实现了突破,逐步与全息光刻、注塑成型、投影光刻等技术形成了有力的竞争态势。

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