沃格光电亮相TGV行业峰会,玻璃基板技术突破及产业化进展受高度关注

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2025玻璃基板TGV产业链高峰论坛

2025.3.19-20 | 苏州

3月19日至20日,2025玻璃基板TGV产业链高峰论坛在苏州盛大举行,来自业内的知名公司、科研院所、协会机构等数百名专家学者和相关人士参与研讨。作为国内玻璃基板技术领域的领军企业,沃格光电及其子公司通格微受邀参会并发表专题演讲,并系统性披露其在TGV金属化工艺上的突破性进展、全制程技术能力以及市场化应用成果,引发行业高度关注。沃格光电凭借技术壁垒高筑的玻璃基板工艺,正在加速撬动万亿级先进封装市场。

直击行业痛点:TGV金属化工艺难题破解

在《TGV金属化工艺难点及技术解决路径》主题演讲中,通格微副总经理魏炳义指出,玻璃基板虽具备成本低、尺寸灵活、介电性能优异等先天优势,但其产业化落地的核心障碍在于TGV工艺的可靠性。例如,玻璃基板在通孔、金属化过程中易出现铜附着力不足、微裂纹扩散、孔内填充空洞等缺陷,直接影响封装器件的良率和寿命。

针对这些"卡脖子"难题,通格微研发团队通过持续的材料改性、工艺参数优化和设备自主开发三大路径,已经实现关键突破。并且,通格微的解决方案不仅覆盖工艺全链条,更形成数十项发明专利,构筑起技术护城河。

全制程能力:从3微米孔径到10微米铜厚的硬核实力

自2009年成立以来,沃格光电就从光电玻璃玻璃精加工领域,逐步布局延伸到玻璃基板研发制造领域,是目前全球少数具备玻璃基板"全制程自主可控"能力的企业。从玻璃原材切割、薄化、超精密通孔加工,到双面线路图形化、多层堆叠金属化,其技术参数均达国际一线水平。

论坛上,魏炳义透露,目前通格微在TGV超精细加工方面可实现最小孔径3微米,深径比高达150:1,可满足3D封装TSV(硅通孔)替代需求。同时镀铜铜厚最高达10微米,支持4层以上玻璃基板堆叠,适配高密度互连应用场景。

值得注意的是,通格微还设备供应商联合开发了多款关键设备,如高精度激光钻孔机和真空溅镀系统,实现核心装备国产化。这一"工艺+设备"双轮驱动的模式,使其在产能爬坡和定制化开发上更具灵活性和可靠性。

万亿市场启航:从新型显示到AI芯片的跨界渗透

随着AI算力芯片向大尺寸、高集成度演进,传统封装基板逐渐逼近物理极限。玻璃基板凭借更低信号损耗、更高尺寸稳定性等优势,成为台积电、英特尔等巨头布局CoWoS、HBM等先进封装技术的优选载体。

通格微的市场化进展也印证了这一趋势。在半导体先进封装领域,目前已与国内外多家头部企业展开深入合作,相关玻璃基产品获验证通过,并小批量生产交付中。在新型显示领域,玻璃基Mini /Micro LED相关产品已为国内外客户开启批量供货。

从破解工艺难题到定义行业标准,沃格光电正以玻璃基板为支点,撬动半导体封装技术的范式变革。随着AI、5G、自动驾驶等产业对高算力芯片需求的爆发,掌握核心工艺的沃格,正努力成为全球先进封装产业链中不可或缺的"中国名片"。


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