PREFACE INTRODUCTION
2025年3月27日，上海——在全球半导体行业瞩目的"国际集成电路展览会暨研讨会(IIC Shanghai 2025)"颁奖盛典上，普冉股份荣膺"年度技术突破IC设计公司"！这是继2024年荣获"年度创新IC设计公司"后，再次登上领奖台。
普冉股份凭借多项核心技术突破与行业领先的创新能力，从全球顶尖IC设计企业中脱颖而出。这一殊荣不仅是对普冉技术实力的高度认可，更彰显了公司在半导体领域的竞争力。
这一殊荣，是对普冉在集成电路领域持续深耕与技术突围的有力印证。 通过工艺制程的突破性革新，公司已在产品可靠性、能耗控制与成本效益等维度打造了差异化竞争优势，树立了良好的品牌知名度。
普冉始终将技术突破视为企业发展的核心引擎。未来将持续加码技术研发资源投入，攻坚克难，致力于以更高性能、更具市场竞争力的产品矩阵，赋能全球客户智能化升级需求。
在IIC Shanghai 2025的获奖，既是对过往技术沉淀的褒奖，亦是未来探索的号角。普冉将继续深化自主技术壁垒，加速国产芯片产业化进程，为中国半导体行业的高质量发展注入澎湃动能。
