高纯合成二氧化硅替代正当时

$凯盛科技(SH600552)$   

目前全球范围内能够生产6N（99.9999%）至7N（99.99999%）级别的高纯度合成二氧化硅的企业主要集中在半导体、光通信、航空航天等高端领域。以下是基于公开信息整理的核心企业及技术特点：

一、国际头部企业

1. 贺利氏（Heraeus，德国）

- 产品与技术：其ZANDOSIL系列合成二氧化硅采用气相沉积法（CVD）生产，纯度可达99.999%（5N9）以上，部分型号通过后处理工艺可进一步提升至6N级别。该产品具有超低金属杂质（如Fe、Al、Na均低于0.1ppm）和低羟基含量（<1ppm），适用于半导体晶圆抛光、光纤预制棒等场景。

- 应用领域：半导体封装材料、高端光学镀膜、激光器件等。

2. 康宁（Corning，美国）

- 产品与技术：HPFS 7979光学级熔融石英玻璃采用化学气相沉积（CVD）工艺，纯度达99.999%以上，均匀性等级F级，杂质含量低于0.1ppm。其产品在半导体光刻设备、深紫外光学系统中广泛应用。

- 应用领域：极紫外（EUV）光刻镜头、半导体石英坩埚内层材料。

3. 信越化学（Shin-Etsu Chemical，日本）

- 产品与技术：信越的合成石英砂通过溶胶-凝胶法制备，纯度可达6N-7N，主要用于半导体晶圆制造中的石英部件（如扩散管、石英舟）。其技术特点在于纳米级颗粒均匀性控制，确保材料在高温下的稳定性。

- 应用领域：半导体晶圆加工、LED外延生长设备。

二、中国领先企业

1. 凯盛科技（600552.SH，中国）

- 产品与技术：凯盛科技是国内唯一能够量产6N7N合成二氧化硅的企业。凯盛科技的合成石英砂通过溶胶-凝胶法生产，纯度可达6N-7N，杂质含量（如Fe、Al、Ti）均低于0.1ppm。其5000吨级产线于2023年底建成，主要用于半导体封装材料、光伏坩埚内层等领域。

- 应用领域：半导体抛光材料、光伏N型硅片坩埚。

综上，全球能够稳定生产6N-7N合成二氧化硅的企业主要集中在德国、美国、日本和中国，其中中国企业在国产化替代和规模化生产方面进展显著，未来有望在全球供应链中占据更大份额。