2025年中国涂胶显影设备工作原理、相关政策及产业链结构

涂胶/显影设备是在光刻工艺中与光刻机配合作业的重要设备。涂胶/显影设备在光刻工艺中作为光刻机的输入（曝光前光刻胶涂覆）和输出（曝光后图形的显影）设备。它通过机械手使晶圆在各系统之间传输和处理，从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影、坚膜等工艺过程。

为推动半导体产业发展，增强产业创新能力和国际竞争力，带动传统产业改造和产品升级换代，进一步促进国民经济持续、快速、健康发展，相关部门先后出台《新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策》、《“十四五”数字经济发展规划》等鼓励和支持半导体设备产业发展的政策，为我国半导体设备行业发展营造了良好的政策环境。

本文节选自华经产业研究院发布的《2023年中国涂胶显影设备行业现状及竞争格局分析，逐步实现进口替代，提升国内市场份额「图」》，如需获取全文内容，可进入华经情报网搜索查看。

涂胶显影设备行业是半导体产业链中的一个重要环节，其上下游产业的发展状况对涂胶显影设备行业具有重要影响。上游设备供应商主要提供涂胶显影设备所需的原材料、零部件和技术支持，如光刻胶、过滤器、泵、阀门、传感器等。下游半导体厂商是涂胶显影设备的主要用户，其生产需求和技术要求直接决定了涂胶显影设备的市场规模和技术发展方向。

随着全球电子制造业向发展中国家和地区转移，中国半导体行业保持较快发展。中国半导体行业市场规模从2017年的1315亿美元增长至2022年的1820亿美元，CAGR为5.6%，约占全球半导体行业市场规模三分之一。