关税争端再起，自主可控成为焦点。光刻机为半导体制造核心设备，空间巨大、海外高度垄断。光刻工艺是半导体制造最核心的工艺之一，光刻机也是技术壁垒最高、市场空间最大的细分设备大类之一。
根据AMAT资料，2023年全球957亿美元WFE市场中，光刻机占比约26%、近250亿美元。而光刻机市场高度垄断，荷兰ASML一家便占据绝大多数市场，尤其是在高端产品如EUV、ArFi等领域呈绝对领先，此外日本Nikon、Canon也有一定市场份额。
光刻机壁垒高筑，核心指标持续迭代演进。光刻机对芯片的曝光效果和大规模量产时的良率、效率都有着极为重要的影响，其首要的核心指标是分辨率，以顺应摩尔定律，进而需要追求波长的缩短（光源）、数值孔径NA的提高（物镜和浸没式）、k1因子的降低（照明条件、计算光刻等），以及催生出了多重曝光技术。此外，光刻机的套刻精度提高、产能提高也是持续迭代的重要方向。
核心子系统空间可观、供应链稳定集中。荷兰ASML公司2024年系统销售成本为104亿欧元，上游采购空间巨大，其中核心子系统作用关键，主要包括光源（ASML子公司Cymer垄断）、曝光光学系统（照明+物镜，德国Zeiss为核心供应商）、工件台（整机厂商自研）。此外，对准系统、环境控制系统、软件等也是光刻机不可或缺的重要组成。
国产化攻坚正当时，积极关注产业链公司。在外部贸易环境的不确定性下，同时得益于国内下游土壤丰厚以及产业链自身技术突破，光刻机产业链正面临着自主可控攻坚的紧要关头，整机及上游子系统/零部件厂商将迎来国产化突破及加速的黄金发展期。
【参考研报】20250411-东方财富证券-光刻机行业深度报告：自主可控攻坚正当时，产业链迎突破黄金期
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