电磁屏蔽效率和透过率是评估光刻机性能的重要指标之一。透过率是指电磁波通过材料时的透射能力。在光刻机中，透过率通常指的是光通过光学窗口时的透射能力。透过率与电磁屏蔽效率成反比关系，即电磁屏蔽效率越高，透过率越小，反之亦然。在光刻机中，电磁屏蔽效率和透过率的平衡非常重要。一方面，需要确保光刻机内部的电磁环境稳定，避免外部电磁干扰对光刻过程的影响；另一方面，需要保证光刻机光学窗口的高透过率，以确保光的高效传输。光刻机电磁屏蔽效率和透过率是相互制约的两个指标。在设计和制造光刻机时，需要通过优化材料和结构设计，实现两者之间的最佳平衡，以确保光刻机的高性能和稳定性。
有研国晶辉新材料有限公司2024-12-30 一种随机金属网栅及其制备方法本发明
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本发明涉及磁屏蔽材料技术领域，具体公开一种随机金属网栅及其制备方法。所述方法包括：将稀释剂和光刻胶混合均匀，得光刻胶溶液；于60℃‑90℃下将所述光刻胶溶液超声喷涂于基底上，得超声喷涂基底；在所述超声喷涂基底上镀制金属膜，清洗，得随机金属网栅；其中，稀释剂为丙酮和N‑甲基吡咯烷酮的混合物；光刻胶溶液和基底的喷涂距离为50mm‑70mm。通过本方法制备的金属网栅，通过随机图案的设计，能明显减小高级次杂散光对成像质量影响，兼具有较高的电磁屏蔽效率和透过率的特点，本发明提供的制备方法操作简单，可实现大规模工业生产。
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