国林科技（SZ300786）是目前A股市场上唯一一家主营臭氧设备、且该类产品已用于半导体清洗环节的上市公司。
其子公司国林半导体推出的高浓度臭氧水系统和臭氧气体发生器，可用于光刻工艺中的晶圆湿法清洗、光刻胶去除、薄膜沉积（CVD/ALD）等环节，间接服务于光刻机制程良率提升。
目前，公司已向部分清洗设备厂商、光伏及面板头部企业送样验证，并与新凯来等国产设备商在ALD/CVD清洗环节展开协同适配，但尚未公开具体进入哪家光刻机制造上市公司的供应链。
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